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非平衡制备过程(非平衡制备过程是什么)

本篇目录:

类金刚石薄膜的制备

(3)磁过滤真空弧沉积 这是近年来发展起来的一种新型离子束薄膜制备方法。

金刚石薄膜的制备方法很多,可分为两大类:物理气相沉积法(PVD);化学气相沉积法(CVD)。现介绍几种典型常用的方法:热丝化学相沉积法(HCVD)此法又称为热能CVD法,其工作原理见图2-11-10(1)。

非平衡制备过程(非平衡制备过程是什么)-图1

CVD法是化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)的缩写,它是一种薄膜制备技术。CVD法通过在适当的气氛中提供反应气体,使其在基底表面发生化学反应并沉积形成薄膜。

进入80年代以来,科学家们又成功地发展了多种CVD金刚石多晶薄膜的制备方法,如热丝CVD方法、微波等离子体CVD方法、直流等离子体CVD方法、激光等离子体CVD方法、等离子增强PECVD方法等。

不同的制备方法,DLC膜的成分、结构和性能不同。

产生非平衡载流子的的方法

一种是比平衡载流子多出了一部分载流子,为注入情况;另一种是比平衡载流子缺少了一部分载流子,为抽出情况。

非平衡制备过程(非平衡制备过程是什么)-图2

在一定的温度条件下,当外界作用光照电厂等时,半导体载流子浓度会发生变化,偏离热平衡状态,这种状态就是非平衡状态,对于嗯型半导体平衡状态时的电子数。是多数载流子非平衡状态时注入的空穴称为非平衡少数载流子。

改变方法与效果不同 掺杂在一般能浓度下对载流子的迁移率影响不大,主要是通过增加杂质载流子浓度改变电导率。只有在重掺杂时才会是迁移率下降,不过载流子浓度增加的更多一些,总体使电导率升高。

半导体载流子利用光照在半导体内引入非平载流子的方法称为载流子的光填充。载流子注入是指半导体通过外界作用而产生非平衡载流子的过程称作载流子注入。

当太阳光照射到由p型和n型两种不同导电类型的同质半导体材料构成的p-n结上时,在一定条件下,光能被半导体吸收后,在导带和价带中产生非平衡载流子——电子和空穴。

非平衡制备过程(非平衡制备过程是什么)-图3

热激载流子和光激载子区别是改变方法与效果不同。热载流子是具有高能量的载流子,即其动能高于平均热运动能量的载流子,因此其运动速度很高。光激载子是产生光生非平衡载流子,改变载流子浓度产生附加电导。

机械合金化的机械合金化的发展历史

1、年发明机械合金化方法,使弥散强化合金获得较大进展,研制出用弥散强化和时效硬化或固溶强化方法结合起来制成的一系列用于高温的合金(机械合金化合金)。目前应用的弥散强化合金约20多种。

2、机械合金化(Mechanical Alloying,简称MA)是指金属或合金粉末在高能球磨机中通过粉末颗粒与磨球之间长时间激烈地冲击、碰撞,使粉末颗粒反复产生冷焊、断裂,导致粉末颗粒中原子扩散,从而获得合金化粉末的一种粉末制备技术。

3、粒子分布不均匀。机械合金化是1970年美国INCO公司的Benjamin发明的一种材料加工新工艺。该工艺熔点低的原因先消失的原因是粒子分布不均匀。

4、最早是用天然的石头和木材制作工具,以后逐步发现和使用金属。中国使用金属材料的历史悠久,在两千多年前的《考工记》中就有“金之六齐”的记载,这是关于青铜合金成分配比规律最早的阐述。

正常凝固是非平衡凝固吗

1、正常凝固是水分子随着时间推移而损失,然后达到凝固。

2、平衡凝固是指凝固过程中冷却速度极度缓慢,过冷度很小,接近于平衡状态的凝固过程。平衡凝固指的是宏观过程。稳态凝固是指的液固两相界面溶质原子的浓度梯度保持不变的凝固过程。指的是微观过程。

3、非平衡凝固的特点有:凝固过程中,液、固两相的成分偏离液、固相线;凝固过程进行到一更低的温度才能完成;生成固体的成分是不均匀的。随着冷却速度的增大,这些特点表现的愈明显。

4、非平衡凝固的定义:在液体结晶并析出固体的过程中,由于降温速度过快,使得液体中所析出固体分子扩散不均匀,导致结晶中固体分子各处浓度不均匀,当温度降到固相线时,仍存在液相的非均匀结晶现象。

5、如果离异共晶在平衡凝固条件下得到的是不能消除的,如果是在非平衡凝固过程中出现了离异共晶,是可以采用高温扩散退火消除。

到此,以上就是小编对于非平衡制备过程是什么的问题就介绍到这了,希望介绍的几点解答对大家有用,有任何问题和不懂的,欢迎各位老师在评论区讨论,给我留言。

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